真空手套箱用磁控溅射离子镀技术为黄铜电镀亮铬的卫生洁具镀制ZrN膜。真空手套箱设备采用基材为锆的非平衡磁控溅射靶和中频电源，以及脉冲偏压电源。
(1)抽真空
5 X 10-3～6.6 x 10-13Pa本底真空。真空手套箱设备加热温度应在真空室器壁放气后又回升到100～150℃。
(2)轰击清洗
真空度：通人气真空度保持在2～3Pa。轰击电压：800～1000V，脉冲占空比20%。轰击时间：10min。
(3)手套箱
①沉积锆底层
真空度：通入气，真空度保持在s x l0-1Pa。靶电压：400—550V，靶功率15 N 30W/Crrr2。脉冲偏压：450～500V，占空比20 %。手套箱时间：5～10min。
②镀ZrN膜
真空度：通入氮气，真空度保持在(3～5) x 10-1Pa。靶电压：400～550V，靶电流随靶的面积增大而加大。脉冲偏压：150～200V，占空比80 %。手套箱时间：20～30min。
由于真空手套箱磁控溅射技术中金属离化率低，不容易进行反应沉积，获得化合物膜层的工艺范围比较窄。真空手套箱设备可采用气体离子源将反应气体离化，扩大反应沉积的工艺范围。也可以采用柱状弧源产生的弧等离子体作为离化源，柱状弧源还是辅助手套箱源。
真空蒸发镀膜
真空蒸发镀膜是指在真空条件下，通过蒸发源加热蒸发某种物质使其沉积在基板材料表面来获得薄膜的一种技术。被蒸发的物质被称为蒸镀材料。蒸发镀膜早由 M.法拉第在 1857年提出，经过一百多年的发展，现已成为主流镀膜技术之一。
真空蒸发镀膜系统一般由三个部分组成：真空室、蒸发源或蒸发加热装置、放置基板及给基板加热装置。在真空中为了蒸发待沉积的材料，需要容器来支撑或盛装蒸发物，同时需要提供蒸发热使蒸发物达到足够高的温度以产生所需的蒸汽压。
真空蒸发镀膜技术具有简单便利、操作方便、成膜速度快等特点，是应用广泛的镀膜技术，主要应用于光学元器件、LED、平板显示和半导体分立器的镀膜。真空镀膜材料按照化学成分主要可以分为金属/非金属颗粒蒸发料，氧化物蒸发料，氟化物蒸发料等。
镭雕
也叫激光雕刻或者激光打标，是一种用光学原理进行表面处理的工艺。
利用激光器发射的高强度聚焦激光束在焦点处 . 使材料氧化因而对其进行加工.打标的效应是通过表层物质的蒸发露出深层物质,或者是通过光能导致表层物质的化学物理变化出痕迹,或者是通过光能烧掉部分物质,而“刻”出痕迹,或者是通过光能烧掉部分物质, 显出所需刻蚀的图形,文字。
金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。
金属真空镀膜与您分享怎么纠正真空电镀膜层附着力差的问题？
◆一定要保证产表面打底活化处理，并且确认镀膜工序全部处于开启状态
◆根据基材本身的性质不同来确定工艺参数
◆定期更换电极板，在设备上多花点时间，可以避免很多出错