真空除气储存柜设备用途
本系统主要分为机械与电控两大部分。下面将详述各个部分构成。
机械部分主要由以下两个单元构成：真空箱室单元、真空获得系统单元。
真空除气储存柜设备主要应用于金属材料与非金属材料的高真空热处理。主要应用行业与工艺：半导体硅片除气；3D打印金属工件与合金材料的高真空热处理；X射线管高真空除气。
真空除气储存柜的加热系统
1、加热区尺寸：定制
2、加热功率：30-80 KW（实际功率可调）
3、加热元件：钼片
4、隔热组件：钼+不锈钢
5、温度测量：S型热电偶
6、控温精度：±1℃
7、升温速率 ：由室温升至1000℃小于80min（空载）
8、加热室：采用圆筒形加热室结构。隔热屏采用多层钼结构，各层之间采用99刚玉陶瓷，发热体为钼片，钼片均匀环绕在隔热屏周围，实现良好的温度均匀性。具有使用寿命长、隔热保温性能好、真空放气量较少。外框使用不锈钢（310S）板材料，并且焊接多道加强筋以保证不变形。
9、加热控制：采用PID智能控温模块设计，可编辑30+段升温曲线，存贮20+组工艺配方，组合PLC等实现超压、超温、过流等自动报警保护功能，10寸液晶触摸屏显示操作，具有操作方便，功能强大，稳定性好等特点。
真空除气储存柜通过以下技术方案得以实现
一种真空除气存储柜，包括真空室、真空系统、加热系统、水冷、柜体等，柜体内设置有一个或多个储物室，储物室朝向柜体前端的一端为储物室的开口端，柜体上设置有将储物室的开口端封闭的封盖，储物室的内部底端设置有能够自储物室的开口端抽出的水平的托板，托板的两侧与储物室内部相对的两个侧壁滑动相连，真空除气炉。
真空除气存储柜工艺流程
真空除气存储柜、真空除气炉的控制操作可以选择手动与自动两种模式。
该设备有两种工艺流程：常温保压工艺与加热除气工艺。用户可根据实际情况需要，在设备上设定需要的执行功能与详细的目标参数。当用户设定参数之后，系统即按照用户的设定参数默认执行。
设备具有很高的智能化，当用户设定的参数目标值存在错误或逻辑冲突时，系统会及时提醒并不能按照错误的数据启动运行设备。并可以提供20+组不同的参数组，供客户选择和修改。并且具备工艺记忆功能，方便客户的使用。