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pvd金属真空镀膜与您分享pvd真空蒸发镀膜
01、定义
pvd真空蒸发镀膜是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质使之汽化，蒸发粒子流直接射向基片并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。
02、真空蒸发踱膜主要经历
1、采用各种能源方式转换成热能， 加热膜材使之蒸发或升华， 成为具有一定能星 ( 0霉 1/'"->J0 . 3 e V) 的气态粒子（原子、分子和原子团）；
2 、离开膜材表面，具 有相当运动速度的气态粒子以基本上无碰撞的直线飞行输运到基体表面；
3、到达基体表面的气态粒子凝聚形核后生长成固相薄膜；
4、组 成 薄 膜 的 原子重组排列或产生化学键合；
03、原理及特点
原理：
热蒸发是在真空状况下，将所要蒸锻的材料利用电阻加热达到熔化温度，使原子蒸发，到达并附着在基板表面上的一种锻膜技术。
特点：
设备简单、操作容易
海膜纯度高，质量好， 厚度可控
速率快、、可用掩膜 获得清晰图形
薄膜生长机理比较单纯
缺点：
不易获得结晶结构的薄膜
粘膜与基片附着力小
抛光
抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，使PVD涂层产品表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法，是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对PVD涂层产品表面进行的修饰加工。抛光处理以得到光滑表面或镜面光泽为目的，有时也用以消除光泽。通常以抛光轮作为抛光工具。
脱气
脱气是将已经超声清洗的待镀产品在真空环境下通过加热、保温、冷却的方式使待镀产品盲孔、缝隙、焊接处，以及产品表面等部位没有被超声清洗干净的杂质、油污和易挥发的材料在高温、真空条件下挥发出来，保证产品在镀膜时不会被杂质气体氧化、导致涂掉膜甚至污染炉腔的一种深层次的清洁方式。
工艺流程
单色、渐变色：抛光/喷砂/拉丝→除油→阳极氧化→中和→染色→封孔→烘干
双色：①抛光/喷砂/拉丝→除油→遮蔽→阳极氧化1→阳极氧化2 →封孔→烘干
②抛光/喷砂/拉丝→除油→阳极氧化1 →镭雕→阳极氧化2 →封孔→烘干
技术特点
1、提升强度,
2、实现除白色外任何颜色。
3、实现无镍封孔，满足欧、美等国家对无镍的要求。